深孔内壁电弧离子镀膜方法

2016/10/21 9:52:51 人评论 次浏览 分类:科技创新

 专利名称:深孔内壁电弧离子镀膜方法
专利类别:发明
申请号或专利号:ZL200910303933.7
专利申请日:2009.07.02
摘要:深孔内壁电弧离子镀膜方法属于材料科学与工程技术领域。涉及一种用电弧离子镀在具有深孔结构的模具和管子内壁沉积薄膜的方法。其特征在于,在镀膜过程中同时使用工件周围的不均匀磁场与脉冲偏压,利用电磁场与等离子体的相互作用达到在深处镀膜的目的。使用的磁铁的磁感应强度为500~8000高斯、长度20~150mm,磁铁到工件孔内壁和孔端面的距离与磁感应强度成正比,符合L=(B±500)/40(mm)关系;使用的脉冲偏压幅值为200~800V,频率5~40kHz,占空比5~40%。其效果和益处是在具有管孔结构的工件内壁镀膜,镀膜的深度大于2倍孔径。广泛用于机械制造领域中具有内孔结构的零件和模具的内表面镀膜。
 
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